简介
三氯氢硅（HSiCl3）是一种用途非常广泛的有机硅单体，是生产半导体硅、单晶硅和多晶硅的重要原料，亦是合成有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷最基本的单体。随着多晶硅及有机硅烷偶联剂工业的发展，尤其是精细化工、有机硅产业、电子产品、光纤通讯等行业的快速发展，为三氯氢硅的生产和下游产品的开发提供了巨大的市场空间和机遇。对氯碱企业而言，三氯氢硅还是一个可规划的产值高、有发展前途的产品，投资小，见效快，具有很好的经济效益，市场开发潜力大。
技术特点
1）采用大型节能连续流化床反应器（单台流化床能力超过1万吨）；
2）采用加压反应（可有效缩小流化床制作尺寸，提高原料转化率）；
3）湿法除尘（能有效解决管道频繁堵塞难题）；
4）变压吸附法尾气处理（提高原料利用率，利于环保）；
5）采用加压精馏（利于产品分离，降低能耗）；
6）余热回收利用（三氯氢硅合成反应放出的热量用于余热回收锅炉副产蒸汽）。
技术指标：GB∕T 28654-2018 《工业三氯氢硅》；
应用领域
三氯氢硅（HSiCl3）是一种用途非常广泛的有机硅单体，是生产半导体硅、单晶硅和多晶硅的重要原料，亦是合成有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷最基本的单体。
